Производственная база

Установка газофазного осаждения VVHT 0305

Назначение: Получение карбида кремния из газовой фазы. Основные технические характеристики:

• Диметр рабочей области камеры 300 мм, высота 500 мм;
• Максимальная температура в рабочей камере 1500 ^оС;
• Минимальное давление в камере при вакуумировании 20 Па;

Установка предназначена для химического осаждения и инфильтрации карбида кремния (SiC) из газовой смеси метилтрихлорсиллана, водорода и аргона.

Установка газофазного осаждения BN 2.0

Назначение: Получение высокочистого пиролитического нитрида бора из газовой фазы. Основные технические характеристики:

• Диаметр реактора 110 мм;
• Максимальная температура установки 2100 ^оС;

Установка предназначена для газофазного осаждения высокочистого гексагонального нитрида бора на графитовую подложку с её последующим удалением. В зависимости от скорости подачи газов и времени процесса, существует возможность варьировать толщину получаемого материала.