Назначение: Получение карбида кремния из газовой фазы. Основные технические характеристики:
Установка предназначена для химического осаждения и инфильтрации карбида кремния (SiC) из газовой смеси метилтрихлорсиллана, водорода и аргона.
Назначение: Получение высокочистого пиролитического нитрида бора из газовой фазы. Основные технические характеристики:
Установка предназначена для газофазного осаждения высокочистого гексагонального нитрида бора на графитовую подложку с её последующим удалением. В зависимости от скорости подачи газов и времени процесса, существует возможность варьировать толщину получаемого материала.